Back To Top

ZEISS PiWeb Module Monitor

Wizualizacja raportów dynamicznych

Moduł Monitor został zaprojektowany z myślą o wydajności i łatwości użycia jednocześnie. Raporty ogólne i specyficzne dla części umożliwiają dostęp do danych procesowych w każdej chwili i z każdego miejsca. Dynamiczne raporty umożliwiają natychmiastową analizę istotnych danych podczas procesu produkcyjnego. Funkcje interaktywne, takie jak grupowanie danych, analiza gniazd i poszczególnych detali pomagają w natychmiastowym przełożeniu danych pomiarowych w cenne spostrzeżenia.

Pobierz lub zamów materiały

Skontaktuj się z nami

Nadzorowanie

  • Monitorowanie danych jakościowych i nadzorowanie procesów w czasie rzeczywistym
  • Łatwa nawigacja przez wszystkie dane pomiarowe (szczegółowe strony dotyczące analizy danych, oddzielanie i grupowanie w celu analizy skupień)
  • Łatwy dostęp do wszystkich ważnych wartości statystycznych i obliczeń
  • Interaktywne wizualizacje CAD
  • Rozpowszechnianie popularnych badań, takich jak R&R przyrządów pomiarowych i analiza montażu

Dynamika i interaktywność

Moduł Monitor przedstawia natychmiast najnowsze dane pomiarowe z modułu Server oprogramowania ZEISS PiWeb. Wszystkie wykresy i analizy włączone do raportu wyświetlają nowe dane natychmiast. W celu szczegółowej analizy wyników pomiarów moduł Monitor umożliwia dostęp do wszystkich najważniejszych wartości statystycznych i analiz po wykonaniu tylko jednego kliknięcia. Użytkownik może łatwo nawigować przez duże zasoby raportów za pomocą powiązań raportów lub stron z raportami.

Strony szczegółowe

Strony szczegółowe umożliwiają kontrolę odchyleń tolerancji i zmienności procesów. Moduł Monitor posiada zintegrowane najczęściej używane strony szczegółowe, a tworzenie i dodawanie własnych stron jest również łatwe.

Statystyka

W celu szczegółowej analizy możliwy jest łatwy dostęp do najczęściej używanych parametrów statystycznych, takich jak wartość minimalna, maksymalna, średnia i odchylenie standardowe, jak również wartości cp i cpk. Można wyświetlać te parametry bezpośrednio na stronach z raportami lub uzyskać do nich dostęp poprzez kliknięcie dowolnego wykresu.

Analiza powtarzalności i odtwarzalności (R&R) przyrządów pomiarowych

Proces uzyskiwania danych pomiarowych podlega podobnej zmienności jak sam proces produkcyjny.

ZEISS PiWeb pomaga oceniać dokładność procesu pomiarowego za pomocą analizy systemu pomiarowego typu I, II i III. Wymowne wykresy i wszystkie wymagane wartości statystyczne (średnia, rozrzut lub ANOVA) ułatwiają przeprowadzanie takich analiz systemów pomiarowych przy użyciu ZEISS PiWeb. Możliwość interaktywnego ręcznego wprowadzania danych pomiarowych do modułu Monitor ułatwia gromadzenie wszystkich potrzebnych danych.

CAD

Moduł Monitor przedstawia wyniki pomiarowe bezpośrednio na modelu CAD. Modele CAD pozostają interaktywne, co oznacza, że można je obracać, powiększać/pomniejszać i przemieszczać w finalnym raporcie.

ZEISS PiWeb obsługuje również analizę danych z chmur punktów, uzyskanych w pomiarach optycznych, takich jak danych w formacie G3D.

Interaktywne ręczne wprowadzanie danych pomiarowych

Nawet w dzisiejszych czasach wiele danych pomiarowych jest uzyskiwanych z użyciem ręcznych przyrządów pomiarowych. Moduł Monitor ułatwia ten proces poprzez umożliwianie wprowadzania zmierzonych wartości bezpośrednio do raportu. Maski do wprowadzania danych ograniczają wprowadzanie nieprawidłowych danych, a kontrolerzy uzyskują niezwłocznie graficzną informację zwrotną dotyczącą naruszeń tolerancji i ostrzegawczych wartości granicznych.

 

Na naszej stronie internetowej stosujemy pliki cookie. Pliki cookie są małymi plikami tekstowymi, które są zapisywane przez strony internetowe na komputerze użytkownika. Pliki cookie powszechnie stosowane i pomagają w optymalnym wyświetlaniu stron i ich doskonaleniu. Korzystając z naszych stron użytkownik wyraża na to zgodę. więcej

OK